高纯含氟电子气体国产化成功
发布日期：2020/06/26 来源：中国气协 本站有 人浏览
日前，黎明化工研究设计院承担的国家科技重大专项‘极大规模集成电路制造装备与成套工艺’中的‘高纯四氟化碳和六氟化硫研发与中试’子项目，通过了国家重大专项项目组的现场测试与评审，已提交客户使用，市场应用效果良好。这标志着极大规模集成电路行业用高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体实现了国产化。
据悉，高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体是极大规模集成电路行业必须的清洗、蚀刻气体。随着极大规模集成电路技术的提升，芯片制程向14纳米甚至7纳米的迈进，其对电子气体的纯度要求越来越高。为此，黎明院借助国家科技重大专项平台，突破产物合成、精制提纯、杂物分析、洁净充装等关键技术，攻克了高纯度四氟化碳和六氟化硫制备过程中微量杂质的纯化、分析等技术难题，制备出5.8N四氟化碳和5.5N六氟化硫，部分杂质含量在0.1ppm以内。在研发过程中，黎明院共申报专利9项，发表研究论文6篇，编制国标1项、企标2项，并建成了标准化洁净间。
项目的研发成功，实现了含氟气体由工业级向高纯级、多品种等高性能、高附加值产品的转型升级以及氟化物产品的结构调整，助推了黎明院高质量发展。
来源：中化新网
据悉，高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体是极大规模集成电路行业必须的清洗、蚀刻气体。随着极大规模集成电路技术的提升，芯片制程向14纳米甚至7纳米的迈进，其对电子气体的纯度要求越来越高。为此，黎明院借助国家科技重大专项平台，突破产物合成、精制提纯、杂物分析、洁净充装等关键技术，攻克了高纯度四氟化碳和六氟化硫制备过程中微量杂质的纯化、分析等技术难题，制备出5.8N四氟化碳和5.5N六氟化硫，部分杂质含量在0.1ppm以内。在研发过程中，黎明院共申报专利9项，发表研究论文6篇，编制国标1项、企标2项，并建成了标准化洁净间。
项目的研发成功，实现了含氟气体由工业级向高纯级、多品种等高性能、高附加值产品的转型升级以及氟化物产品的结构调整，助推了黎明院高质量发展。
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