10月23日，南大光电（乌兰察布）有限公司年产8400吨高纯电子级三氟化氮项目成功备案。

据悉，该项目乌兰察布市集宁区，总投资60000万元，主要建设电解厂房、后处理厂房等生产装置及其他相应设施、工程，计划建设起止年限是2024年5月到2028年12月，建成投产后可年产8400吨高纯电子级三氟化氮。

南大光电（乌兰察布）有限公司（原名乌兰察布南大微电子材料有限公司）成立于2021年，是江苏南大光电的控股子公司。

2021年12月10日，南大光电发布公告称，投资12元在察哈尔经济技术开发区巴音片区建设高纯氟系电子材料项目，主要建设年产7200吨三氟化氮、年产500吨六氟化钨、年产1000吨六氟乙烷四氟化碳联产项目等生产线及附属设施。其中，年产500吨六氟化钨项目已于今年3月奠基。

三氟化氮市场简析

三氟化氮常温下为无色、不溶于水的气体，不与水、稀酸和稀碱溶液反应，但在100摄氏度下与碱性溶液接触时会缓慢水解生成亚硝酸盐及氟化物。三氟化氮是一种有潜力的氟化剂，约200摄氏度时，其反应性与氧相当；400摄氏度以上时，其反应性与氟相似，可解离成NF2·和F·的自由基，在化学合成中可作为NF2·和F·自由基的供给源。

三氟化氮主要用作等离子蚀刻气体和反应腔清洗剂，适用于半导体芯片、平板显示器、光纤、光伏电池等制造领域。和其他含氟电子气体相比，三氟化氮具有反应快、效率高的优点，尤其在对氮化硅等含硅材质的蚀刻中，具有较高的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂，而且对表面无污染，能够满足加工过程需求。

受益于下游集成电路制造工厂产能扩张、集成电路制程技术节点微缩、3D NAND多层技术的发展，芯片的工艺尺寸越来越小，堆叠层数增加，集成电路制造中进行刻蚀、沉积和清洗的步骤增加，高纯三氟化氮的需求将快速增长，预计2025年全球需求增长至6.37万吨左右，需求量增长空间超过1倍、年复合增长率达到约15%。

根据TECHCET数据，2017-2020年，全球三氟化氮的需求较为平稳，总体 供给大于需求，但是不同地区间市场情况存在差异，国内三氟化氮呈现供不应求状态。2021年开始全球三氟化氮需求将快速增长，与供给的差额逐渐缩小，主要系集成电路工艺技术进步、工厂扩产，以及汽车智能化等趋势带来新的芯片需求，进而带动电子特种气体的使用需求增长，预计至2025年，全球三氟化氮的需求量将超过供给，出现供应缺口。

（来源：内蒙古自治区投资项目在线审批办事大厅、氟化工）